NEDO ワシントン事務所:デイリーレポート

2012年

■ エネルギー・環境・産業技術関連では、以下のような動きがあった

3月23日号

国立標準規格技術研究所(NIST)、次世代半導体研究に対する260万ドルのグラントプログラムを発表

商務省の国立標準規格技術研究所(NIST)が、米国エレクトトニクス産業界の将来にとって不可欠である次世代半導体技術の長期的研究を支援するため、初年度に最高260万ドルの資金を提供する計画であることを発表した。

2012年3月15日にGrants.govに掲示された提案募集要項によると、NISTの目標は、現在のコンピューターチップに使用されているシーモス(Complementary Metal Oxide Semiconductor =CMOS: 相補型金属酸化膜半導体) と呼ばれる技術(注:1) とは根本的に異なる新技術を開発することにあり、こうした技術的障害の打開を支援するため、産業界誘導型のパートナーシップ・プログラム …民間企業や学術機関、非営利組織や政府機関を含む… を支援する予定であるという。このため、グラント獲得者は単一コンソーシアムでできる範囲を超越して遥かに広範囲な取組みを行なうことの出来る複数団体から成るコンソーシアム(consortium of organizations)になるものとみられている。

プロジェクト案の提出期限は2012年4月16日。グラントを受けるコンソーシアムには、連邦政府以外の資金源でプロジェクト予算の最低25%を拠出するというコストシェア義務が課されることになる。同プログラムの支援期間は最高5年間。(NIST Tech Beat, March 20, 2012; NIST Funding Announcement, March 15, 2012)

 

 

 


注釈:

1: CMOSは今後10年から15年間で縮小の物理的限界に達し、同技術ではコンピューターチップのコンポーネントの集積度向上が困難になるとみられている。

 


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